電荷を帯びた原子や分子を半導体ウェハーに慎重に注入して電気的特性を変化させるプロセスはイオン注入と呼ばれ、集積回路（IC）やその他の半導体デバイスの製造に利用されている。
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イオン注入装置市場のセグメント
イオン注入装置市場を調査し、カテゴリー別の将来性と需要を明らかにした。 市場をテクノロジー、アプリケーション、地域の3つのセグメントに分類した。
イオン注入装置の市場は、用途によって半導体、金属仕上げ、その他のセグメントに分けられる。 金属仕上げは、物体の表面を改質して耐久性や魅力を高め、金属製品の磨耗や損傷を減らす技術である。 導体と絶縁体の中間の性質を持つ材料は半導体と呼ばれる。 半導体は現代の電子機器の重要な部品であり、集積回路、トランジスタ、ダイオードの動作に不可欠である。
イオン注入装置市場は、技術によって高電流、中電流、高エネルギーの3つのセグメントに分けられる。 高電流イオン注入装置では、一定時間内に比較的多くのイオンを供給することができる。 高いスループットが要求される半導体製造アプリケーションでは、この能力が役立ちます。 大電流インプランターに比べ、中電流インプランターは、比較的低いビーム電流で、中程度のドーズ量のイオンを供給することができます。 これらのインプランターは、半導体製造において、ある種類と濃度のイオンを導入することで材料の導電性などの特性を変化させるドーピングなど、さまざまな目的で使用されます。
高エネルギー注入装置と呼ばれる特殊な装置は、半導体の製造において、シリコンウェーハにドーパント原子を注入するために使用される。 コンピュータ、携帯電話、その他の家電製品は、これらの装置で製造された集積回路（IC）によって駆動されている。
競争環境
Amtech Systems Inc.、Acxelis Technologies Inc.、Invetac Inc.、Idonus Sarl、Solvay Inc.などが世界のイオン注入装置市場をリードする企業である。 加えて、住友重機械工業、センス株式会社、日新イオン機器株式会社、株式会社イオンテクノロジーセンター、Acxelis Technologies Inc. Ltd.、Ion Technology Centre Co.Ltd.、Ulvac Inc.などが日本市場の上位5社である。 本調査には、世界のイオン注入装置市場におけるこれら主要企業の徹底的な競合分析、会社概要、現在の動向、主要市場戦略がすべて含まれている。
原資料: SDKI アナリティクス
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